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          科研進(jìn)展

          科學(xué)島團隊在高壓調控CrSiTe3結構和層間耦合方面取得新進(jìn)展

          作者:潘孝美發(fā)布時(shí)間:2023-04-07【打印】【關(guān)閉】
            近期,中科院合肥物質(zhì)院固體所計算物理與量子材料研究部丁俊峰團隊聯(lián)合南開(kāi)大學(xué)王維華教授等,實(shí)現了二維磁性材料CrSiTe3的高壓結構及層間耦合調控,并利用超低頻高壓拉曼光譜闡明了其高壓相的空間群信息。相關(guān)結果發(fā)表在Journal of Physical Chemistry Letters上。

            二維磁性材料因具有高度可調的物理性質(zhì)以及在自旋電子學(xué)中的潛在應用價(jià)值,近年來(lái)引起了研究者的廣泛關(guān)注。二維層狀材料由于層間只靠微弱的范德瓦耳斯力(vdW)作用連接, 可通過(guò)機械剝離法將其減薄至原子級厚度。具有磁各向異性的二維磁性材料, 其物理性質(zhì)與層數、堆疊形式等密切相關(guān)且可被多種外場(chǎng)調控。其中,CrSiTe3作為一種二維鐵磁半導體,由 CrTe6 八面體單元形成六角蜂窩晶格, 剝離后仍能保持長(cháng)程磁序等諸多優(yōu)異的物理性能,同時(shí)也是一種帶隙可調的拓撲磁性材料。雖然,已有研究發(fā)現了CrSiTe3中壓致超導電性和磁性的增強,但是其高壓結構尚不清楚,這不利于分析和理解壓力誘導的新奇現象和機制。為了解決這一難題,研究團隊結合超低頻高壓拉曼光譜實(shí)驗和第一性原理計算,明確了高壓下CrSiTe3的結構。

            研究團隊采用機械剝離法獲得了少層的CrSiTe3薄片,并將其置于金剛石對頂砧裝置(DAC)中進(jìn)行高壓實(shí)驗,利用超低頻高壓拉曼光譜技術(shù)系統地研究了二維層狀鐵磁半導體CrSiTe3的壓力誘導結構相變。該實(shí)驗首次在CrSiTe3中中觀(guān)測到位于42.1 cm-1左右的層間呼吸模式。結合理論計算,發(fā)現CrSiTe3在大約5.0 GPa8.2 GPa之間經(jīng)歷了從R-3R3空間群的結構相變,并伴隨著(zhù)居里溫度(Tc)的顯著(zhù)提高。該研究明確了CrSiTe3的高壓結構,提供了一種調節及探測二維vdW材料層間耦合的有效途徑,并表明層間耦合的增強可以顯著(zhù)提高CrSiTe3的鐵磁性,這有助于進(jìn)一步理解CrSiTe3的構效關(guān)系,為設計具有高性能二維vdW鐵磁體提供了指導。

            合肥物質(zhì)院丁俊峰研究員、博士生程鵬和南開(kāi)大學(xué)王維華教授為論文共同通訊作者,碩士生潘孝美和博士生辛保娟為論文共同第一作者。上述工作得到了國家自然科學(xué)基金,中科院創(chuàng )新項目和山西省科技創(chuàng )新團隊專(zhuān)項資金的支持。

              
          1. CrSiTe3分別在常壓下和高壓下的晶體結構圖和拉曼光譜圖。
             
          2. (a)室溫下CrSiTe3的高壓拉曼光譜圖; (b)壓力下的拉曼光譜強度變化三維圖,其中LP代表低壓相,HP代表高壓相;(c) 壓力下的拉曼峰位置變化圖; (d) 壓力下的拉曼峰強度變化圖;(e) 壓力下的拉曼峰半峰寬(FWHM)變化圖。

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